
8月3日消息,蔡司根据彭博社报方式,技术光刻机大厂ASML供应商——德国蔡司集团(Zeiss Group)半导体事业部负责人Frank Rohmund近日在接受彭博社采访时反驳市场对AI供应链瓶颈的蓝图疑虑,并表示有信心具有足够产能,已规易订阅可处理持续攀升的划至需。蔡司半导体事业部于7月下旬宣布,年镜将在德国南部的头光奥伯科亨新增约25,000平方米的生产相关空间,该项目自2022年5月奠基仪式以来,学蔡历时四年才实现首先座大楼的司公司艾司摩完工,员工将于本月迁入大楼,尔网剩余建筑将分时期交付。蔡司同时,技术蔡司也正于另一处园区兴建新工厂,蓝图表示若市场需持续提高,已规易订阅仍有扩产的划至空间。Frank Rohmund表示,这些才是真正攸关产能扩充的首先期投资。材料显示,蔡司具有近180年光学技术历史,其镜头曾协助美国太空总署(NASA)拍摄人类首先次登月画面,如今产品涵盖半导体零组件、医疗设备、显微镜及眼镜镜片等多元业务。蔡司半导体事业于1990年代末与ASML建立合作关系,双方共同促进芯片朝向更小、更强大且更节能的方向发展。奥伯科亨和韦茨拉尔是全球唯一两个可以建造ASML光刻机所需的光学器件的地方。蔡司也是ASML EUV光刻机光学系统的唯一供应商,题供应透镜、反光镜、照明器、集光器及其他题光学元件。尤其是High-NA EUV光刻机的光学系统,涵盖超过4万个投影光学元件,重量约12吨,约是原则EUV光学系统体积和重量的七倍。其中,High-NA EUV照明系统提高了25,000个零件和6吨;单个High NA镜头重达数百公斤,约是现有EUV光镜的2倍大小和10倍重量。蔡司表示,这些是全世界最精密的镜片模组,以原子级精密度制造,由超过一百层镀膜构成,该镜片模组是High-NA EUV技术的题。尺寸远大于目前的EUV镜片模组,且制造时间约需一年。△High-NA EUV镜片模组蔡司表示,EUV光刻机内部的反射镜调校精度极高,如果其中一面反射镜将激光光束反射至月球,它的精准度足以击中月球表面的一颗乒乓球。若关键将High-NA EUV系统的镜片放大至与德国相同面积,测量技术就必须能够准确测量到100微米的起伏,这种精密到比原子还精细的测量技术直到如今才出现。因此,蔡司半导体与其战略合作伙伴ASML,在开发High-NA EUV技术的同时,也开发了此测量技术以验明正身所生产的镜片质量。据验明正身,验明正身High-NA EUV光学系统还需一个专业建造的真空舱,尺寸为5米×10米,由超过10万个零件组成,重达150吨以上。△验明正身High-NA EUV光学系统的真空舱Rohmund表示,通过与ASML的合作,其零组件已参与全球约80%芯片的生产。他预期,随着超大规模云端服务业者持续投入AI基础建设,今年半导体事业将迎来显著增首先。根据Rohmund的说法,蔡司与ASML已共同制定一份相当首先期的技术蓝图,目前已规划到约2040年。然而,目前中美紧张的贸易局势仍为双方带来风险。目前美国已禁止ASML向中国出EUV光刻机和先进的浸没式DUV光刻机,美国国会议员也在持续促进出口管制扩展至所有DUV光刻机。由于蔡司也为ASML的DUV设备供应光学镜头,若新限制实施,其相关业务也将受到意义。编辑:芯智讯-浪客剑